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通知公告

NHF Forum 第117期学术报告会

时间:2020-04-10   来源: 文本大小::【 |  | 】  【打印
报告人:孙再成 教授,北京工业大学
题   目:缺陷对光催化剂性能的影响

时   间:2015年10月20日(星期二) 

地   点:国家纳米科学中心



报告内容:

近年来,氧空穴对光催化的影响受到广泛的重视。通过在TiO2纳米晶表面引入缺陷,我们发现当缺陷浓度控制在一定范围之内时,缺陷会捕获光生电荷,从而能抑制电荷的重新复合过程。 而当缺陷浓度过高时,缺陷会导致光催化性能的降低。基于这一结果我们缺陷辅助的电荷分离过程,为了详细研究缺陷对光催化性能的影响,我们构建了TiO2纳米棒,并在其表面和本体上引入可控浓度氧空穴,对比研究了本体和表面氧空穴光催化剂性能的影响。进一步我们把这一体系有原来的TiO2体系扩展到具有可见光响应的硫化物体系, 我们合成了具有硫空穴的ZnCdS固溶体,发现其光催化性能也得到了明显的提升。

 



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